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徠卡高真空鍍膜儀Leica EM ACE600 高真空鍍膜儀

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Leica EM ACE600 是一款高真空鍍膜儀，真空泵采用隔膜泵和渦輪分子泵，無油真空系統(tǒng)，真空度可達(dá)2×10 -6 mbar。鍍膜細(xì)膩均勻。內(nèi)置石英膜厚檢測器，可精確控制鍍膜厚度。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用觸摸屏控制，簡單方便。

儀器可選離子濺射鍍金屬膜，滿足高分辨場發(fā)射掃描電鏡（FE-SEM）需求。可選碳絲蒸發(fā)鍍碳膜，用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。還可以選擇電子束蒸發(fā)方式鍍膜，獲得極其細(xì)膩的金屬膜與碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。

1、真空系統(tǒng)
1.1 真空泵：隔膜泵+渦輪分子泵（67l/s），無油真空系統(tǒng)
1.2 極限真空度：≤2×10-6mbar（連續(xù)抽真空24h）
1.3 真空計：Pirani真空計+冷陰極真空計
1.4 抽真空時間：儀器干凈，分子泵全速，約需15分鐘抽至5×10-5mbar，
約8分鐘抽至10-4mbar（可以開始鍍膜）
2、鍍膜方式
2.1 脈沖式碳絲蒸發(fā)鍍膜法
3、碳絲蒸發(fā)法
3.1 蒸發(fā)模式：脈沖式碳絲蒸發(fā)（專利）*
3.2 一次可安裝4組碳絲，單根或雙根，自動檢測和切換碳絲
3.3 鍍膜厚度：1-100nm可調(diào)，自動終止，檢測精度0.1nm
3.4 靶材相對樣品臺角度：25°
3.5 碳絲蒸發(fā)功率：最大780W
3.6 內(nèi)置擋板，自動開啟與關(guān)閉，用于除氣時（degas）防止污染
4、樣品倉
4.1 方形金屬樣品倉
4.2 玻璃單倉門，超大面積觀察窗
4.3 樣品倉內(nèi)壁可拆卸
4.4 樣品倉尺寸：寬：200mm，深：150mm，高：195mm
4.5 LED樣品倉內(nèi)部照明
5、旋轉(zhuǎn)樣品臺
5.1 三向可調(diào)樣品臺：可旋轉(zhuǎn)，可傾斜，可調(diào)節(jié)工作距離
5.2 旋轉(zhuǎn)速度：5檔可調(diào)，觸屏控制，馬達(dá)自動調(diào)節(jié)
5.3 樣品臺角度：+/-60°可調(diào)，手動調(diào)節(jié)
5.4 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30-100mm，手動調(diào)節(jié)
5.5 樣品臺直徑：104mm，帶24孔，可插入24個SEM標(biāo)準(zhǔn)樣品臺（12.7mm）
6、QSG石英膜厚檢測器
6.1 標(biāo)配內(nèi)置QSG石英膜厚檢測器
6.2 檢測精度：0.1nm
6.3 可設(shè)置鍍膜厚度范圍：碳絲蒸發(fā)：1-100nm。
7、操作控制
7.1 內(nèi)置式彩色觸摸屏控制
7.2 全自動，設(shè)定參數(shù)后，儀器自動抽真空，切換擋板，樣品臺旋轉(zhuǎn)至指定速度，傾斜至指定角度，工作距離調(diào)節(jié)至指定高度，鍍膜至指定厚度，放氣
8、電氣參數(shù)及環(huán)境要求
8.1 電壓：100/115/230V（-10%/+15%），50/60Hz
8.2 功率：≤1000W
8.3 保險絲：230V，1A，115V，2A
8.4 USB接口：U盤容量≤32GB
8.5 工作溫度：15-30°C
8.6 存儲溫度：5-40°C
8.7 環(huán)境濕度：≤80%
9、尺寸與重量
9.1 主機：寬：～300mm，深：～540mm，高：～640mm
9.2 主機凈重：～65kg
9.3 真空樣品倉：寬：200mm，深：150mm，高：195mm
9.4 紙箱包裝尺寸：寬：600mm，深：800mm，高：920mm，凈重：～74kg
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